3.如果设备使用的主泵为扩散泵时，应在泵的进气口一侧装设有油蒸捕集阱。
4.设备的镀膜室应设有观察窗，应设有挡板装置。观察窗应能观察到沉积源的工作情况以及其他关键部位。
5.离子镀沉积源的设计应尽可能提高镀膜过程中的离化率，提高镀膜材料的利用率，合理匹配沉积源的功率，合理布置沉积源在真空室体的位置。
6.合理布置加热装置，一般加热器结构布局应使被镀工件温升均匀一致。
7.工件架应与真空室体绝缘，pvd镀膜公司，工件架的设计应使工件膜层均匀。
8.离子镀膜设备一般应具有工件负偏压和离子轰击电源，离子轰击电源应具有抑制非正常放电装置，维持工作稳定。
9.真空室接不同电位的各部分间的绝缘电阻值的大小，均按gb/t11164-1999中的4、4、6。
pvd镀膜真空镀膜机保养知识：
1. 关闭泵加热系统，然后分离蒸镀室（主要清洁灰尘，于蒸镀残渣）
2. 关闭电源或程序打入维护状态
3. 清洁卷绕系统（几个滚轴，五金pvd镀膜厂家，方阻探头，光密度测量器）
4. 清洁中罩室（面板四周）
5. 泵系统冷却后打开清洁（注意千万不能掉入杂物，检查泵油使用时间与量计做出更换或添加处理）
6. 检查重冷与电气柜设备
这次实习给了我们了解了镀膜技术的原理、技术，使我们了解了工厂的生产，感觉很新颖，收获很多。
在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。
镀膜的方法及分类
在真空条件下成膜有很多优点：可减少蒸发材料的原子、分子在飞向基板过程中于分子的碰撞，莞城pvd镀膜，减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应（如氧化等），金属pvd真空镀膜厂家，以及减少成膜过程中气体分子进入薄膜中成为杂质的量，从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与基板的附着力。通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2pa，对于蒸发源与基板距离较远和薄膜要求---的场合，则要求压力---。
pvd镀膜真空镀膜技术是一种新颖的材料合成与加工的新技术，是表面工程技术领域的重要组成部分。pvd镀膜
真空镀膜可使工件表---有耐磨损、耐腐蚀、化、防辐射、导电、导磁、绝缘和装饰等许多---其本身的---性能，达到提高产品、延长产品寿命、节约能源和获得---技术经济效益的作用。
镀膜技术在刀具、模具等金属切削加工工具方面的应用
在生活中我们会看到金黄色的、钴铜色的、黑色的等七杂八色的钻头、铣刀、模具等，这些就是经过镀膜技术加工后的涂层工具。
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