真空镀膜过程简单来说就是电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与原子发生碰撞,电离出大量的离子和电子,电子飞向基片。离子在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜。
但在实际辉光放电直流溅射系统中,自持放电很难在低于1.3pa的条件下维持,这是因为在这种条件下没有足够的离化碰撞。因此在低于1.3~2.7pa压强下运行的溅射系统提高离化碰撞就显得尤为重要。提高离化碰撞的方法要么靠额外的电子源来提供,而不是靠阴极发射出来的二次电子;要么就是利用高频放电装置或者施加磁场的方式提高已有电子的离化效率。
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真空镀膜技术可以实现不能通过电沉积方法形成镀层的涂覆:如铝、钛、锆等镀层,甚至陶瓷和金刚石涂层,五金真空镀膜公司,这是十分难能可贵的.
真空镀膜---良:真空镀膜厚度远小于电镀层,但涂层的耐摩擦和耐腐蚀性能---,孔隙率低,五金真空镀膜厂,而且无氢脆现象,相对电镀加工而言可以节约大量金属材料.五金真空镀膜
环境效益优异:真空镀膜加工设备简单、占地面积小、生产环境优雅洁净,无污水排放,里水五金真空镀膜,不会对环境和操作者造成危害.在注重环境保护和大力推行清洁生产的形势下,真空镀膜技术在许多方面可以取代电镀加工.
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pvd真空镀膜可镀ipg浅金、ip金色、ip炉内玫瑰金、ip咖啡色、ip铬、ip灰色、棕色、ip黑、色等。
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pvd镀膜过程非常复杂,由于镀膜原理的不同分为很多种类,仅仅因为都需要高真空度而拥有统一名称。所以对于不同原理的pvd真空镀膜,影响均匀性的因素也不尽相同。并且均匀性这个概念本身也会随着镀膜尺度和薄膜成分而有着不同的意义。
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