真空电镀原理说明:
真空电镀的镀膜方式分为真空蒸镀(pvd)与真空溅镀(sputter)二种:
(1) 真空蒸镀(pvd)
此乃早期之真空电镀模式,其原理乃利用钨丝来当电极,当钨丝被通以电流加热至铝金属之熔点(700至 800℃)时,塑料真空电镀,此时置放在钨丝上之铝金属即被蒸发为铝原子团,此时铝原子团再一层一层表面之被镀物,故此制程亦被称为pvd,物理气相沉积。
现在为了增加美观度和耐磨度保色等,我们经常会用到电镀。但是首饰电镀应该注意哪些问题我们未必都清楚,今天电镀加工厂就来说下。
电镀首先就是选材。一般我们用的的材质就是钢,一点我们会选用银材质,其次是铜,pvd真空电镀,合金等。合金类的很多是由于压铸出来受温度影响和胚料影响---一般不建议选择做真空电镀,水镀挂镀是---的选择。钢的话不管是水镀还是真空都做可以,而且成品的效果---,东坑真空电镀,一般是建议选择!
镉电镀工艺:镉是一种雪白光泽软金属,硬度比锡硬,五金真空电镀,比锌软,可塑性好,易于锻造和轧制。镉的化学性质与锌类似,但不溶于碱性溶液,溶于和,缓慢溶于稀---和稀---。镉和可溶性镉盐的蒸气都是有毒的,必须严厉防止镉的污染。因为镉污染危害很大,而且价格昂贵,所以一般采用锌涂层或合金涂层替代镉涂层。
pvd真空镀层厚度不均匀:是指实际镀层厚度高低或分布不均匀时的厚度。
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