在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，金属真空镀膜厂家，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。
真空镀膜技术初现于20世纪30年，四五十年开始出现工业应用，工业化---生产开始于20世纪80年代，在电子、宇航、包装、装潢、烫金印刷等工业中取得广泛的应用。
真空镀膜技术是一种新颖的材料合成与加工的新技术，是表面工程技术领域的重要组成部分。真空镀膜技术是利用物理、化学手段将固体表面涂覆一层特殊性能的镀膜，从而使固体表---有耐磨损、耐高温、耐腐蚀、、防辐射、导电、导磁、绝缘和装饰等许多优于固体材料本身的---性能，达到提高产品、延长产品寿命、节约能源和获得---技术经济效益的作用。
真空pvd镀膜涂层表面摩擦系数小，经过表面抛光的金属材料的表面对钢摩擦系数一般在0.9左右，真空pvd镀膜涂层对钢材的摩擦系数在0.01～0.6之间，常用于压铸模具的真空pvd镀膜涂层材料（alcrn，altin）摩擦系数一般在0.4-0.6，低的摩擦系数使经过真空pvd镀膜处理的模具在加工过程中与被加工零件的表面摩擦降低，金属真空镀膜加工，零件表面品---于没有涂层的模具所生产的零件。
真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，金属真空镀膜，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。
真空镀膜应用是真空应用中的一个大分支，在光学、电子学、理化仪器、包装、机械以及表面处理技术等众多方面有着十分广泛的应用
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